# 专利交底书编写 支持 **发明**、**实用新型**、**外观设计** 三种专利类型(未指定时默认发明)。
| 能力 | 说明 |
|---|---|
| 专利类型 | 发明 / 实用新型 / 外观设计分模板成文 |
| 项目扫描 | 按优先级读文档和代码;Word / PPT 会先转成 Markdown 再扫 |
| 外观线稿 | 成文前选用或生成产品线稿,与干净实拍一并写入交底 |
| 实用结构线稿 | 成文前选用或生成结构线稿,并叠部件序号 |
| 专利点 | 候选点讨论与融合 |
| 查新 | 优先 国知局 · 中国专利公布公告;异常或无果时再换其他检索。著录写入交底第一章 |
| 交底书成稿 | 脱敏模版;发明用框图;实用/外观嵌结构图或视图;定稿可出 Word |
| 交付命名 | 按案件名和时间戳输出 Markdown 与同名 Word |
| 自检 / 迭代 | 逻辑与公式自检(不写入正文);补材料或纠错会另存新文件并留下修订记录 |
| 保护型 1+N(旁路) | 首篇定稿后先问要不要做布局。答应后:技术分解 → 突围路径 → 技术功效矩阵 → 立项说明(family.yaml + 专利布局.md,含立项校验表),确认后再分件写交底。只护自己的核心,本趟只出中国交底;校验看能不能拆开写,不是高价值达标 |